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離子注入是現代集成電路制造中的一種非常重要的技術，其利用離子注入機實現半導體的摻雜
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　　半導體行業離子注入機離子源鎢鉬組件。
　　離子注入是現代集成電路制造中的一種非常重要的技術，其利用離子注入機實現半導體的摻雜，即使用鎢絲作為陰極發射電子轟擊含有特定的雜質元素的氣體分子，產生電離的特定雜質原子經靜電場加速后打到硅單晶圓片表面，并打入半導體內部，改變導電特性并最終形成晶體管結構。

關鍵詞:
半導體
離子注入機
特定
雜質
分子
特性
使用
一種
摻雜
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